“透明玻璃”光芯片诞生!有望用于精密测量、AI算力和量子计算_损耗_光子_光纤
- 发表时间:2026-09-08 12:18:15
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“让芯片上的光子通道能如同光纤玻璃般纯净透明,是我们课题组 20 多年以来一直追寻的梦想。如今通过制备工艺的突破,它正变得触手可及。”谈及发表在 Nature 上的光芯片论文,第一作者兼共同通讯作者、美国加州理工学院博士后陈豪敬对 DeepTech 介绍道。
图丨陈豪敬(来源:受访者)
这项研究来自加州理工学院、南安普敦大学与加州大学圣塔芭芭拉分校联合团队,他们共同开发了一种超低损耗掺锗二氧化硅光子集成平台。
“掺锗二氧化硅听起来像是一种很陌生的材料,其实存在于家家户户的光纤就是由这种玻璃材料构成的。现在我们通过标准半导体 CMOS 工艺将这种光纤材料迁移到芯片上,所以也称它为片上光纤。”陈豪敬表示。
值得注意的是,这款芯片是目前唯一能在可见光到近红外波段实现小于 1 分贝/米(dB/m)超低损耗的光子芯片,在紫光波段(458nm)损耗低至 0.49dB/m,在 1064nm 处损耗低至 0.08dB/m,该性能接近于 1***0 年康宁公司第一次制成低损耗光纤时的损耗水平。
图丨掺锗二氧化硅新质光子集成平台(片上光纤)效果图(来源:受访者)
拥有一块如同透明玻璃般的光子芯片,究竟能打开多少想象空间?
研究团队基于这一“片上光纤”平台,结合色散调控、声光束缚与低噪声设计,成功演示了光学频率梳、布里渊激光与窄线宽激光器这三种核心功能。这标志着该平台并非只能实现单一功能,而是成为一个能同时支撑多种高性能光子器件的通用“工具箱”。
尤为重要的是,研究团队将可见光芯片激光器的线宽压窄到 10Hz 量级,相比之前的记录优化了 2 到 3 个数量级,对于工作在此波段的原子传感器、光学原子钟、中性原子/离子阱量子计算系统至关重要。
图丨窄线宽混合集成激光器(来源:Nature)
陈豪敬表示,这一工作攻克了集成光子学领域长期存在的损耗瓶颈,它不是单一的应用,而是从底层实现了平台的突破。
基于这种高性能、宽波段的新质光子芯片,未来实验室里占据一整张光学平台的精密测量装置,有望被集成到一枚指甲盖大小的芯片上;人工智能的算力瓶颈,有可能通过光速传输与计算的低能耗芯片来突破;甚至构建量子计算机的核心部件,也有望能像搭积木一样在芯片上规模化制备。
近日,相关论文以《从紫光到近红外波段,通往光纤级损耗的光子集成》(Towards fibre-like loss for photonic integration from violet to near-infrared)为题发表 Nature 上 [1]。
图丨相关论文(来源:Nature)
低损耗:光子芯片的“生命线”
也许很多人没意识到,我们每天使用的互联网之所以能让全球数据光速通达,凭借的是其信息传递载体——光纤的超低损耗。可以把它想象成一条极其光滑、宽阔的超级高速公路,光信号作为“快递员”,能在其中跑得极快、极远,而几乎不消耗“体力”(能量)。
如今,人们希望将这种强大的光信号处理能力,压缩到一枚小小的光子芯片上,在极小的面积内集成很长的光路、实现复杂的功能。
然而,光在这种微米甚至纳米级通道中前进会因材料吸收、散射及表面污染等原因而不断损耗能量。损耗值每升高 1 个数量级,光信号能有效传输的距离或能完成的复杂运算步骤,就会降低十倍,基于光学微腔的激光器能耗和相干性甚至能恶化百倍。因此,损耗水平可以说是光子芯片“生命线”,并决定其能否从实验室走向实际应用。
过去十年来,以氮化硅(Si3N4)和薄膜铌酸锂为代表的低损耗集成光学平台在通信波段(约 1550nm)取得了巨大成功。然而,当研究人员试图将这一范式推向波长更短的可见光及近红外波段(400-1100nm)时,却遇到了难以逾越的物理瓶颈。
一方面,光在芯片波导中传播时,由于波导侧壁的粗糙度,光子会被散射产生损耗。当光子“变小”,所有粗糙都被放大。如同小轿车与大型越野车驶过同一片碎石路,小轿车(短波长光子)受到的颠簸和偏离(散射)会剧烈得多。
另一方面,波长越短,光子能量更高,这就像光子进入了材料中更密集的“捕获区”,被吸收转化为热量的概率大大增加。因此,开发能在可见光波段实现超低损耗的平台,需要材料体系纯度、微纳制备工艺与器件设计水平同时达到一个全新的高度。
(来源:受访者)
为了攻克短波难题,研究团队从光纤设计中获得灵感,创造性地在二氧化硅芯片波导中掺入二氧化锗。这不仅像“调味”一样改变了材料特性,提高了折射率以约束光场,还意外地发现掺杂后材料的熔点降低了。
这一发现带来了关键的工艺突破:他们可以利用代工厂标准的退火炉,在约 1,000℃ 下进行晶圆级的热回流处理。这个过程如同微观“熨烫”,凭借表面张力将波导侧壁打磨得原子级光滑,从而从根源上极大抑制了光散射损耗。
由此,团队实现了性能的跨越,例如在绿光波段,微环腔的品质因子达到 2 亿,相比氮化硅平台跃升了 2 个数量级。“在可见光波段,我们实现了根本性的突破,”陈豪敬指出,相比于通讯波段已经成熟的“红海”,一个全新的可见光与近红外芯片应用“蓝海”正在展开。
图丨覆盖紫外至近红外波段的超高 Q 值掺锗二氧化硅器件(来源:Nature)
兼容 CMOS 量产的工艺流程
除了追求极致的低损耗,能否与现有 CMOS 代工工艺兼容,是衡量一个光子集成平台能否走向产业应用的另一个关键标尺。这决定了该技术能否依托半导体工业成熟的大规模制造体系,实现低成本、高一致性的生产,从而真正释放其市场潜力。
而此论文所开发的光子芯片,其生产过程中使用的等离子增强化学气相薄膜沉积(PECVD)、紫外光刻、电感离子耦合(ICP)刻蚀等工艺完全兼容 CMOS 产线。据团队介绍,半导体代工厂只需微调现有工艺,即可大规模生产这类光芯片。
陈豪敬解释道:“因为光的波长比电子波长要大,我们制备的光芯片也比计算机电子芯片的特征尺寸大,对光刻的精度要求更低。并且,由于可以应用热回流‘熨烫’修复技术,对侧壁刻蚀的粗糙度也有很大的容错性。”
此外,即使在退火前,该光子芯片也能达到<1dB/m 的超低损耗,这代表与热敏感材料(包括三五族半导体激光器、薄膜铌酸锂、有机光电材料)具有良好的多材料异质集成兼容性。
图丨CMOS 兼容性超低损耗光子芯片及其工艺流程(来源:Nature)
一块低损耗光子芯片,能走多远?
“客观地说,我们虽然迈出了用光纤材料实现低损耗光子芯片的第一步,甚至在可见到近红外波段达到了领先水平,但距离光纤的材料极限,还有百倍的优化空间。”陈豪敬表示。
研究团队***通过开发更高质量的沉积、刻蚀与退火工艺,在芯片上实现 0.2dB/km 这一光纤级的超低损耗终极梦想。“我相信,这个平台将在三个追求极致性能的前沿领域率先展现价值。”陈豪敬说。
图丨光纤级低损耗光子集成回路之梦(来源:受访者)
在精密测量领域,极低的损耗能大幅提升光的相干性,能够让芯片级光学原子钟、陀螺仪的精度发生质变,如同在寂静的房间中捕捉一根针落地的声音。
在人工智能与光计算领域,低损耗是构建大规模光神经网络的前提,允许光信号在复杂芯片回路中完成成千上万次运算,从而释放更高算力。
在量子信息领域,低损耗能极大降低量子计算错误率,同时也是构建大规模量子网络与量子增强精密测量(如引力波探测)的基础。
“Sand from centuries past: Send future voices fast.(古沙递捷音,光纤所用的二氧化硅材料由沙石提炼而来。)”曾因光纤通信成就获得诺贝尔奖的高锟先生,用这句话诗意地概括了自己的开创性工作。
如今,时间行至 21 又 2/4 世纪,一场关于这种传奇材料的深刻变革正在芯片上悄然复兴。研究人员不再仅仅满足于用光纤连接世界,更致力于让光在方寸之间完成更复杂的使命。从光纤到芯片,人类的信息正沿着这条愈发澄澈的微型光路,奔向更远的未来。
参考资料:
1.相关论文开放获取: ***s://***.nature***/articles/s41586-025-09889-w
运营/排版:何晨龙返回搜狐,查看更多
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